当前位置:首页 > 杏盛产品 > C系列气相沉积炉
产品分类
S系列等离子烧结系统
P系列真空热压炉
V系列真空炉
G系列气压烧结炉
H系列氢气炉
C系列气相沉积炉
D系列真空扩散焊炉
R系列回转炉
实验真空炉
联系我们
热诱导化学气相沉积是用于各种电介质,半导体和金属材料的保护涂层的沉积的有力方式,无论是单晶,多晶,无定形或外延状态上或大或小的形态。典型的涂层材料包括热解碳,碳化硅,氮化硼。通过使用合成前体,涂层非常纯净并目满足半导体工业的典型要求,根据工艺参数,可以有多种层厚度,从单个或几个原子层到厚度从10纳米到数百微米的固体保护层或功能层,以及厚度达100微米的单片部件,甚至高达数毫米。
产品
联系
电话:13311665350
邮箱:service@haoyue-group.com
地址:上海市嘉定区嘉松北路7301号B2栋
工厂:江苏省南通市通州区聚丰科创产业园1号厂房